超净硅片表面化学清洗工艺的优化研究

102阅读 2人收藏 6页Thincreat上传举报/认领合伙人(招募中) 展开

本文档由 Thincreat 分享于2011-01-29 17:49

第17卷第5期 1996年5月 ? ? tt ^ & CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS Vol. 17,No. 5 May,1996 超净硅片表面化学清洗工艺的优化研究叶志镇姜小波袁骏李剑光 (浙江大学硅材料国家重点实验室杭州3100，，) 搁要本文采用正交试验设计法优化硅片化学 ...

文档格式：: .pdf
文档大小：: 271.04K
文档页数：: 6页
顶 /踩数：: 0 / 0
收藏人数：: 2
评论次数：: 0
文档热度：
文档分类：: 待分类; 添加到豆单

文档标签：: 清洗硅片化学硅片清洗硅片表面清洗工艺研究表面的研究工艺

系统标签：: 硅片表面化学清洗优化工艺 tongfang

下载文档

打印

转格式

转本文档转其他文档

君，已阅读到文档的结尾了呢~~

立即下载加入会员，超低价下载

分享到

下载文档加入会员超低价下载

菜单

全屏

超净硅片表面化学清洗工艺的优化研究

扫扫二维码，随身浏览文档

分享文档

分享完整地址

粘贴到BBS或博客

豆丁提示