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第四章光刻技术.txt
第四章光刻技术
第四章 光刻技术

①定义：通过光化学反应，将光刻版（mask）上的图形转移到覆盖在Si片上的感光层（光刻胶）上的工艺。
②目的：在SiO2 Si3N4 poly-Si 及金属膜上形成与光刻版完全对应的图形，实现选择性扩散和金属布...
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第五章刻蚀技术
第五章 刻蚀技术（图形转移）
定义：用光刻方法制成的微图形，只给出了电路的行貌并，不是真正的器件结构。因此，需将光刻胶上的微图形转移到胶下面的各层材料上去，这个工艺叫做刻蚀。
VLSI对图形转移的要求：保真度；选择比；均匀性；清...
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武汉圣天激光刻章机使用说明
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向豆丁求助：有没有离婚证照片自己带行吗【办证刻章加微hao123bbs】?

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