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Ast-PECVD機台操作手冊. - 國立清華大學奈微與材料科技中心國立清華

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本文档由 15150594 分享于2010-11-11 08:52

操作手冊. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. 機台管理者:郭文鳳 ... 機台在300w 功率之下操作，不宜時間過長(勿開10min 以上)以免 ...
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