第五章刻蚀技术

第五章刻蚀技术 第五章 刻蚀技术（图形转移）定义：用光刻方法制成的微图形，只给出了电路的行貌并，不是真正的器件结构。因此，需将光刻胶上的微图形转移到胶下面的各层材料上去，这个工艺叫做刻蚀。 VLSI对图形转移的要求：保真度；选择比；均匀性；清...