基于光掩膜校准的OPC模型匹配

基于模型的光学邻近效应修正(Model-based OPC)已成为当今光刻工艺中不可或缺的技术。本文通过研究光掩膜图形与关键尺寸的校准，提出了一种简便易行的OPC模型匹配的方法。该方法以不同厂家生产的光掩膜为研究对象，建立了一套误差校准流程，其结果可致一维图形差值小于5nm，二维图形小于10nm。这一方法有效的消除了不同制造工艺造成的光掩膜误差，在保持OPC模型主体不变的情况下，高效率地实现了不同条件下OPC..