MOCVD挑战：镓铟磷-砷化镓体系的生长及其特性

通过在该领域的驱动力之一撰写，金属有机化学气相沉积挑战是全面检讨，包括磷砷化铟镓，磷化铟，磷砷化铟镓，砷化镓，以及电子和光子器件应用的相关材料。 这些III - V族半导体化合物已被用于实现电子，光电，量子器件具有革命性的电信服务。 封底上的图给出了能隙为整个这些III - V族元素的二元，三元，四元组合成分和范围和晶格参数。 通过了解的材料和学习，以控制经济增长的新设备成为可能：前盖显示了世界上第..