纳米压印技术以及仿生结构的制备
本文档由 学术交流 分享于2011-05-10 14:37
纳米压印技术是在20世纪90年代中期发展起来的一种新型的微纳结构制备技术。它继承了传统光刻技术的并行性,因此具有与传统光刻技术可比拟的高产率。同时又继承了直写式纳米结构制备技术(例如扫描探针刻蚀技术)的高分辨性。纳米压印技术另一特点在于借鉴了古老的压模技术,因此避免在光刻技术中所用到的昂贵的光学系统,从而大大降低了成本。纳米压印技术的这些特点使这种技术被认为是最有应用前景的下一代微纳结构刻蚀技..
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