微晶硅薄膜的等离子增强化学气相沉积生长特征

　本文采用27112 MHz 等离子增强化学气相沉积( PECVD) 技术制备了氢化微晶硅薄膜材料,通过Raman 散射谱、X 射线衍射、扫描电子显微镜、原子力显微镜和傅立叶变换红外谱等表征方法研究了生长条件参数对薄膜结构及生长速率的影响,对薄膜的生长机制进行了讨论,特别分析了孵化层形成和演化、以及对晶化率、柱状晶粒生长的作用特征. 实验测量分析表明,在薄膜生长的初期阶段,形成一个嵌入大量小晶粒的非晶孵化层,并随着..