DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜

本文档由 Gobieagle 分享于2010-07-02 17:02

本文采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备 TiO2 透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP),NH3 作为反应先驱体,另外再加入一定量的 N2、Ar 或者 He 作为稀释气体控制气体的流量和流速。
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行业资料  —  轻工业/手工业
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薄膜 掺氮 dbd cvd 法制备 光催化
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