硒源温度对CIGS薄膜结构和形貌的影响

采用中频交流磁控溅射方法,在Mo层上沉积了CuInGa(CIG)预制膜,采用固态硒化法制备获得了Cu(In1-xGax)Se(2 CIGS)吸收层薄膜,考察了硒源温度对CIGS薄膜结构和形貌的影响。采用SEM和EDS观察和分析了薄膜的表面形貌和成分,采用XRD表征了薄膜的组织结构。结果表明,在不同的硒源温度下制备的CIGS薄膜,均为黄铜矿相结构,薄膜具有(112)面的择优取向。当硒源温度为575℃、580℃和585..