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一种光刻胶剥离系统及光刻胶剥离方法.doc

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光刻胶涂布吸头及光刻胶涂布装置.doc

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一种相变-热分解型复合光刻胶的纳米光刻方法.doc

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光刻胶图案增厚材料,光刻胶图案形成工艺和半导体器件制造工艺.doc

（19）中华人民共和国国家知识产权局（12）发明专利申请 （10）申请公布号 CN1497670A （43）申请公布日 2004.05.19 （21）申请号 CN03134679.0 （22）申请日

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光刻胶及光刻胶配套试剂细分领域.docx

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光刻胶及光刻胶配套试剂细分领域分析.docx

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光刻胶分配模块、涂敷系统及在晶圆上旋涂光刻胶的方法.doc

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第12章 光刻掩膜,光刻胶和光刻机.doc

第十一章光刻光刻：Photolithography 光刻是一种图象复印的技术，是集成电路制程中一项关键的工艺技术。在整个工艺流程中，光刻的步骤占到50％以上，其成本占总制造成本的1/3以上。 光刻步骤

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光刻胶及形成光刻图案的方法.doc

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聚合物中的保护基,光刻胶及微细光刻的方法.doc

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