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PA%2fEVOH多层共挤阻隔薄膜结构-性能-加工工艺的研究.pdf
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负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响.docx
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SnO_2的含量对ITO透明导电薄膜结构和光电特性的影响.pdf
- 研究与试制SnO2的含量对 ITO 透明导电薄膜结构和光电特性的影响ΞΞΞ杨田林, 韩圣浩(山东大学威海分校空间科学与应用物理系,山东威海, 264209)摘 要: 阐述了射频磁控溅射方法制备的柔性衬
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氩气压强对直流磁控溅射ZnO_Al薄膜结构和性能的影响.pdf
- 基于Al2O3 掺杂量为3wt %的氧化锌铝陶瓷靶材,采用直流无反应磁控溅射法在载玻片衬底上制备了ZnO∶Al 透明导电薄膜。研究了氩气压强对薄膜微观结构和光电性能的影响。结果表明:氩气压强对薄膜的平均透光率影响微小,其值均在86 %以上,但对薄膜的微观结构和方块电阻有非常明显的影响。随着氩气压强的增大,薄膜的晶粒形状由片状向球状变化,并呈现出c 轴择优生长特性。氩气压强在0. 6～3. 0Pa 范围内增长时,薄膜的方块电阻先缓慢减小,2. 0Pa 后急剧增大。在压强为1. 5Pa 时,薄膜具有最好的电学性能,其电阻率为1. 4 ×10 - 3Ω·cm ,方块电阻为10ΩPsq ,优值为1. 6Ω- 1 ,符合评价标准。
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碲锌镉衬底缺陷对液相外延碲镉汞薄膜结构的影响.docx
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溅射工艺对ZNO、TIO_,2_薄膜结构和光特性影响.pdf
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拉伸工艺对单轴取向聚乳酸薄膜结构与性能的影响.pdf
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射频功率对筒状聚酯内壁类金刚石薄膜结构与性能的影响研究.pdf
- 【文献出处】 真空科学与技术学报, Chinese Journal of Vacuum Science and Technology, 编辑部邮箱 2010年 03期
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊
【关键词】 等离子体增强化学气相沉积; 类金刚石薄膜; 射频功率; 气体透过率;
【英文关键词】 Plasma-enhanced chemical vapor deposition; Diamond-like carbon; RF power; Gas permeability;
【摘要】 利用偏压/射频耦合等离子体增强化学气相沉积技术在聚对苯二甲酸乙二醇酯(简称聚酯,PET)筒内壁制备了类金刚石薄膜(DLC)。采用X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、三维表面轮廓仪、紫外/可见光分光光度计和气体渗透率测试仪考察了射频功率对类金刚石薄膜的结构、沉积速率、表面形貌、光学透过率和气体阻隔性能的影响。结果表明,膜层沉积可有效阻挡近紫外区域的光线,同时对O2,CO2的阻隔能力明显提高,这是由于DLC膜层的致密性质以及PET表面原有缺陷的覆盖。与未镀膜PET相比,150 W时制备的DLC膜的气体透过率分别从58.5,61.7cm3m-2atm-1d-1降低至0.7,1.5 cm3m-2.atm-1d-1,相应的对O2,CO2的阻隔率分别可以提高80倍和40倍。
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给受体共混质量比对P3HT_PCBM薄膜结构和器件性能的影响.pdf
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衬底温度对反应溅射TiN_x薄膜结构与电阻率的影响.docx
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向豆丁求助：有没有薄膜结构和?
