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光刻胶光刻工艺技术(教学资料).doc
Doc-940AEB;本文是“高等教育”中“大学课件”的教学资料的论文参考范文或相关资料文档。正文共33,160字,word格式文档。内容摘要:第二种中,在曝光和未曝光膜区之间产生了抗等离子刻蚀能力差异26,第一,抗蚀剂中光强的周期性变化使得抗蚀剂整层厚度接受能量的剂量不均匀(图22a,将涂光刻胶的表面的特性,包括,用刻蚀工艺,图形特征尺寸,设备要求,生态和处理考虑。
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高粘度光刻胶的涂布方法、光刻方法.doc
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一种相变-热分解型复合光刻胶的纳米光刻方法.doc
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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN1497670A (43)申请公布日 2004.05.19 (21)申请号 CN03134679.0 (22)申请日

向豆丁求助:有没有光刻胶和光刻机?

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