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第12章 光刻:掩膜,光刻胶和光刻机(课件).ppt
光刻是一种种象种印的技种，是集成种路制程中一种种种的工种技种。在整工种流程中，光 个刻的步种占到50 ％以上，其成本占种制造成本的1/3 以上。Photolithography光刻步种占整工种流程 个
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SOC材料与工艺2(光刻胶非光学光刻刻湿).ppt
3.8晶圆处理制程（WaferFabrication；简称Wafer Fab）1. 图形转换：将设计在掩膜版(类似于照相底片)上的图形转移到半导体单晶片上a.光刻（接触光刻、接近光刻、投影光刻、电子束
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光刻工艺光刻胶.ppt
集成电路工艺光刻光刻1、基本描述和过程2、光刻胶3、显影4、文献光刻1、基本描述和过程2、光刻胶3、显影4、文献光刻基本介绍光刻是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后，晶圆
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第12章 光刻:掩膜,光刻胶和光刻机.ppt
第12章 光刻：掩膜,光刻胶和光刻机
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光刻工艺光刻胶ppt课件.ppt
集成电路工艺光刻1光刻1、基本描述和过程2、光刻胶3、显影4、文献2光刻1、基本描述和过程2、光刻胶3、显影4、文献3光刻基本介绍光刻是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后
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SOC材料与工艺2(光刻胶非光学光刻刻湿)精品资料课件.ppt
SOC材料与工艺2(光刻胶非光学光刻刻湿)精品资料课件
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第12章光刻掩膜光刻胶和光刻机ppt课件.ppt
第12章光刻掩膜光刻胶和光刻机ppt课件.ppt第12章光刻掩膜光刻胶和光刻机ppt课件.ppt第12章光刻掩膜光刻胶和光刻机ppt课件.ppt
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2.4-2.5 光刻、光刻胶和刻蚀.ppt
2.42.4.1 光刻工艺概述 2.4.2 光刻胶 2.4.3 涂胶 2.4.4 对位和曝光 2.4.5 显影 2.4.1 凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为
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光刻胶显影和先进的光刻工艺.ppt
完成硅片对准和曝光光刻胶显影 其他先进的光刻工艺 通过显影液将可溶解的光刻胶溶解掉就是光刻胶显影． （光刻的8个基本步骤） 1气相成底膜 2旋转涂胶 4对准和曝光5曝光后烘焙 6显影 7坚膜烘焙 8显
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光刻图形由光刻版转移到光刻胶上!.ppt
第八章第八章 光刻 光刻 光刻：图形由光刻版转移到光刻胶上！光刻：图形由光刻版转移到光刻胶上！ 光刻次数和光刻版个数表征了工艺的难易光刻次数和光刻版个数表征了工艺的难易 决定了特征尺寸决定了特征尺寸
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向豆丁求助：有没有光刻胶和光刻机?

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