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薄膜淀积技术.pdf
FilmDepositionDeposition depositingfilms onto threecategories films:*POLY* CONDUCTORS* INSULATORS (D
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聚焦离子束FIB淀积Pt薄膜技术研究.pdf
复旦大学硕士学位论文聚焦离子束（FIB）淀积Pt薄膜技术研究姓名：刘立建申请学位级别：硕士专业：材料物理与化学指导教师：王家楫2001.5.29复旦大学学位论文论文题目：聚焦离子束（ＦＩＢ）淀积Ｐｔ薄
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薄膜电池超声喷涂技术代替化学气相淀积.pdf
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弗朗恩霍夫微加工技术研究所开姆尼斯微器件研究部-薄膜淀积和刻蚀速率-.pdf
FraunhoferIZM Dept. icroDevices EquipmentReichenhainer Strae 88 09126 Chemnitz Germany 德国电话：(+)49 37
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半导体工艺 薄膜淀积与外延技术.ppt
ChinaDr. Daoli Zhang Office: Room 409 West Building Tel:87542894 Email: zhang-daoli@163.com 微电子工艺学Mi
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第六章 薄膜淀积.ppt
第六章薄膜淀积概述：薄膜淀积是芯片加工过程中一个至关重要的工艺步骤，通过淀积工艺可以在硅片上生长导各种导电薄膜层和绝缘薄膜层。CMOS晶体管的各层膜p+silicon substratep-epi l
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二氧化硅薄膜的淀积.pdf
按掺杂划分：本征SiO2（USG）、PSG、BPSG薄膜；按温度划分：低温工艺（200~500 ）和中温工艺（500~750 按淀积方法划分：APCVD-SiO2、LPCVD-SiO2、PECVD-S
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14薄膜淀积(半导体器件物理).ppt
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多用途LPCVD_PECVD薄膜淀积设备的试制与其薄膜性能的研究.pdf
是一篇介绍多用途LPCVD_PECVD薄膜淀积设备的试制与其薄膜性能的研究的文章，值得相关行业人员学习借鉴。
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