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第五届全国光子学大会会议论文集第四分册:微纳光学与光电子 166电化学刻蚀制作精细光栅金属模版 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209摘要:文中主要介绍了采用电化学刻
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3.4电化学刻蚀工艺对界面结合强度的影响 293.4.1 刻蚀深度均匀性的影响因素 293.4.2 刻蚀过程中的侧蚀现象分析 363.4.3 刻蚀提高铸层与基底结合强度的机理 403.5 本章小结 4
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向豆丁求助:有没有电化学刻蚀?