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HfO2薄膜淀积技术与特性研究
的任务书
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HfO2薄膜淀积技术与特性研究
的开题报告
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HfO2薄膜淀积技术与特性研究
的中期报告
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(凝聚态物理专业论文)射频磁控溅射
HfO2薄膜
的电学
特性
及室温弱铁磁性
研究
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3.3薄膜成分和界面微结构探测和分析…………………………………………223.3.1 Hf02/Si界面性质TEM测试与分析……………………………………22 3.3.2 Hf02/Si界面性质,S测试与
管理科学与工程论文
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溶胶-凝胶法制备Y掺杂
HfO2
纳米
薄膜
的相变及介电
特性研究
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溶胶-凝胶法制备Y掺杂HfO2纳米薄膜的相变及介电特性研究溶胶-凝胶法制备Y掺杂HfO2纳米薄膜的相变及介电特性研究溶胶-凝胶法制备Y掺杂HfO2纳米薄膜的相变及介电特性研究
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光辐照和磁场调控下的掺镍
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电荷存储
特性
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单位代码10635 号112015315001032光辐照和磁场调控下的掺镍HfO2薄膜电荷存储特性 论文作者: 副教授学科专业: 凝聚态物理 研究方向: 纳米薄膜存储器件制备与性能 提交论文日期:
李小小
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薄膜
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特性
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HfO2界面层调制的NiO薄膜的低压多态电阻开关特性HfO2界面层调制的NiO薄膜的低压多态电阻开关特性HfO2界面层调制的NiO薄膜的低压多态电阻开关特性
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射频磁控溅射
HfO2薄膜
的电学
特性
及室温弱铁磁性
研究
---优秀毕业论文 参考文献 可复制黏贴
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射频磁控溅射HfO2薄膜的电学特性及室温弱铁磁性研究---优秀毕业论文 参考文献 可复制黏贴溅射,电学,研究,射频磁控,薄膜的,磁控溅射,磁控溅射法,磁控溅射膜
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高K栅介质
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的电学
特性研究
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HfO2 高K栅介质薄膜的电学特性研究
曼曼
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