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厚膜与
薄膜技术
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2015-12-131半导体集成电路封装技术 半导体集成电路封装技术天津工业大学主讲人:张建新主楼A4152015-12-13 2课程概况 课程概况第1章 集成电路芯片封装概述第2章 封装工艺流程第3
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薄膜
电容
技术
应用
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薄膜电容器薄膜电容器基本常识(制作:徐万军2011.3.8)一、电容器的基础知识 一、电容器的基础知识 1.定义: 电容(或称电容量)是表征电容器容纳电荷本领的物理量。我们把电容器的两极板间的电势差增
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薄膜
材料与
薄膜技术
第二章
薄膜
的化学制备方法(1)
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直流溅射射频溅射磁控溅射离子束溅射真空蒸发溅射沉积离子镀物理气相沉积(PVD)化学气相沉积(CVD)分子束外延(MBE)气相沉积电镀法溶胶-凝胶法电阻加热感应加热电子束加热激光加热直流二极型离子镀射频
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薄膜
材料与
薄膜技术
第二章
薄膜
的化学制备方法(2)
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一、化学镀二、溶胶-凝胶法三、电镀四、阳极反应沉积五、LB技术六、水热法一、化学镀膜化学镀膜是指在还原剂的作用下,使金属盐中的金属离子还原成原子,在基片表面沉积的镀膜技术,又称无电源电镀。化学镀膜与化
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薄膜
制备
技术
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7.薄膜制备技术7.1 薄膜材料基础7.1.1 薄膜的概念与分类1. 薄膜材料的概念采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一
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印
塑料
薄膜
质量标准与质量控制方法谈
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薄膜
材料与
薄膜技术
第三章
薄膜
的物理制备方法-蒸发
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薄膜的物理制备技术直流溅射射频溅射磁控溅射离子束溅射真空蒸发溅射沉积离子镀物理气相沉积(PVD)电阻加热感应加热电子束加热激光加热直流二极型离子镀射频放电离子镀等离子体离子镀物理气相沉积薄膜材料通过物
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薄膜
材料与
薄膜技术
第三章
薄膜
的物理制备方法-溅射
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溅射技术1.溅射沉积原理2. 合金及化合物的溅射3. 溅射装置二、离子镀三. 离子束增强沉积薄膜的物理制备技术直流溅射射频溅射磁控溅射离子束溅射真空蒸发溅射沉积离子镀物理气相沉积(PVD)电阻加热感应
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薄膜
的生长原理和
技术
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《
薄膜
材料
技术
与物理》化学气相沉积
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第三章化学气相沉积外延:在单晶基片上生长一层单晶薄膜的过程。它是20世纪60年代初逐渐发展起来的,它解决了分立元件和集成电路中的许多问题。硅单晶经切、磨、抛等加工,得到抛光片就可以在其上制作分立元件和
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