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低温磁控溅射ZAO薄膜工艺及性能研究.pdf
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电子束蒸发用ZAO靶材的制备.pdf
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纳米zao复合粉体制备及其性能测试.pdf
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绒面ZAO透明导电膜的制备工艺研究.pdf
- 绒面ZAO(ZnO∶Al，氧化锌铝)透明导电膜在硅基薄膜太阳能电池领域应用前景广阔，本文利用
直流磁控溅射方法，采用氧化锌铝陶瓷靶材制备了ZAO 透明导电膜，并用自制的腐蚀液对膜层进行腐蚀
以便形成太阳能电池所需要的表面凹凸起伏的绒面结构。研究了不同镀膜温度对膜层性能的影响，不同
退火条件下膜层热稳定性的变化情况，不同腐蚀时间下膜层电阻、透过率以及表面形貌的变化，结果表
明，在相同真空度、溅射功率和节拍的情况下，220℃下制备的ZAO 透明导电膜膜层性能最好，腐蚀时间
为30 s 时获得的绒面效果好。
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绒面ZAO透明导电膜电极硅薄膜太阳能电池制备.pdf
- 绒面ZAO透明导电膜电极硅薄膜太阳能电池制备
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氧化锌铝_ZAO_陶瓷靶材制备及其薄膜性能.pdf
- 溶胶2凝胶方法制备的ZnO 和Al2O3 混合粉末经冷压预成型加真空低压烧结,制备了高致密度(相对密度99 %) 、低成本的ZAO 陶瓷靶材。研究了ZAO 靶材与无氧铜的粘接性能。用中频交流磁控溅射ZAO 靶材的工艺制备了ZAO 薄膜。利用SEM和XRD 分析测试了陶瓷靶材断口形貌以及靶材和薄膜的结构。试验结果表明:制得的ZAO 靶材具有良好的粘接性和溅射性能,内部组织致密,靶材中有明显的ZnAl2O4 相。在优化沉积工艺条件下,制备的ZAO 薄膜方块电阻为35 Ω ,电阻率可达3184 ×10 - 4Ω·cm ,可见光透过率(λ= 550 nm) 可达9111 %。沉积态的ZAO 薄膜具有很好的结晶性,并呈现(002) 择优取向。ZAO 薄膜有明显的紫外吸收限,带隙Eg 约为3176 eV。ZAO 靶材的工业化磁控镀膜试验也取得了较好的结果。
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工艺对磁控溅射ZAO薄膜光电特性的影响.doc
- 在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ZAO透明导电膜，研究了温度、氧压比、溅射气压、溅射速率等工艺条件对ZAO膜电阻率和可见光透过率等光电特性的影响。实验结果表明，当温度470 ℃、氧氩比0.5 / 40、溅射气压0.5 Pa和镀膜速率3.6 nm/min左右时，可获得薄膜电阻率7.2×10–4 Ω•cm、可见光透过率85 %以上的最佳光电特性参数。
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向豆丁求助：有没有Zao?
