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铜蚀刻液.doc
铜蚀刻液铜蚀刻液铜蚀刻液
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铜蚀刻液.pdf
铜蚀刻液铜蚀刻液铜蚀刻液
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酸性氯化铜蚀刻液.doc
酸性氯化铜蚀刻液1.特性 1.适用于生产多层板的内层和印刷－蚀刻板。所采用的抗蚀剂是网印抗蚀印料、干膜、液体光致抗蚀剂等；也适用于图形电镀金抗蚀层印制板的蚀刻，但不适于锡－铅合金和锡抗蚀剂。2.蚀刻速
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酸性氯化铜蚀刻液.doc
特性适用于生产多层板内层，掩蔽法印制板和单面印制板，采用的抗蚀剂是网印抗蚀印料、干膜、液体感光抗蚀剂，也适用于图形电镀金抗蚀印制电路板的蚀刻。 电镀金抗蚀层印制电路板的蚀刻： 化学组成：化学组分 Cu
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酸性氯化铜蚀刻液.doc
酸性氯化铜蚀刻液1.特性 1.适用于生产多层板的内层和印刷－蚀刻板。所采用的抗蚀剂是网印抗蚀印料、干膜、液体光致抗蚀剂等；也适用于图形电镀金抗蚀层印制板的蚀刻，但不适于锡－铅合金和锡抗蚀剂。 2.蚀刻
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碱性氯化铜蚀刻液.doc
碱性氯化铜蚀刻液1.特性 1)适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 2)蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制。 3)蚀刻液可以连续再生循环使用，成
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酸性氯化铜蚀刻液.doc
酸性氯化铜蚀刻液.doc酸性氯化铜蚀刻液.doc酸性氯化铜蚀刻液.doc
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酸性氯化铜蚀刻液与碱性氯化铜蚀刻液比较.pdf
17涂覆印制电路信息 (2003 No. 9)酸性氯化铜蚀刻液与碱性氯化铜蚀刻液比较( 台光电子材料〔昆山)有限公司 ?35´100)辰 要本文针对酸性氛化Vl蚀刻液与碱性氯化铜抽刻液的组成本性 计算
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酸性氯化铜蚀刻液与碱性氯化铜蚀刻液比较.pdf
同仁能够 组成与特点(见表 ．蚀刻之计算A．酸 蚀刻1-a．蚀 2CuC I+2HC I+H2O uC12+2H2O CuCI，的再生循环，来说 35．56um(1o 60％，CuC1为：(316．2
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铜蚀刻液及其制备方法和应用、铜蚀刻方法.doc
（19）中华人民共和国国家知识产权局（12）发明专利申请 （10）申请公布号 CN105624679A （43）申请公布日 2016.06.01 （21）申请号 CN201410613863.6 （2
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